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在集成电路黄光制程中，晶体基片黑化后的颜色判别是影响光刻胶曝光精度的关键环节。传统方法依赖人工目视评判基片黑化程度和均匀性，易受环境光照差异、人眼疲劳及主观判断偏差等因素干扰，导致评估一致性差、良品率波动显着（通常损失5%-10%）。尤其在滤波芯片制造中，纳米级线宽要求基片反射率误差需控制在±0.5%以内，目视检测难以满足精度需求。

NeoColor 90晶体基片黑化色度分析仪采用全波段光谱捕捉（360-780nm），反射分辨率达0.01%，重复测量精度达到Δ贰*补产≤0.02，确保黑化层色度的测量和品控符合工艺标准。

符合标准

符合标准CIE No.-15， GB/T 30118-2013，GB/T 3978，GB 2893，GB/T 18833，ISO7724-1，ASTM E1164，DIN5033 Teil7

测量参数

光谱反射率,CIE-Lab, CIE-LCh, HunterLab, CIE-Luv, XYZ, Yxy, RGB

色差值

ΔE*ab,ΔE*cmc,ΔE*94,ΔE*00

工业指标

黑度（My,dM）

黄度(ASTM D1925,ASTM E313-00,ASTM E313-73)

Tint(ASTM E313-00)

色密度CMYK(A,T,E,M)

同色异谱指数MI

遮盖力

力份(染料强度,着色力)

NeoColor 90晶体基片黑化色度分析仪技术规格

测量结构：D/8，SCI+SCE

积分球直径：40mm

分光方式：光栅

感应器：双阵列高精度CMOS传感器

照明光源：LED(全波段均衡LED光源)+UV

波长间隔：10nm

波长范围：400-700nm

反射率测定范围：0-200%

反射率分辨率：0.01%

测量重复性/稳定性：

色度值: 标准偏差值dE*ab≤ 0.02(白板校准后以5秒间隔测量白板30次)
光谱反射率： 标准偏差小于0.08%

台间差：ΔE*ab≤0.20（BCRA系列Ⅱ 12块色板测量平均值）

显示精度：0.01

测量时间：小于2秒

视角：2°，10°

测量/照明口径：MAV:Φ8mm/Φ11mm；SAV:Φ4mm/Φ6mm；MINI:1*3mm

摄像头取景定位：有

校准：智能自动校准

接口：USB，蓝牙

屏幕：IPS全彩屏幕3.5英寸

存储：仪器100条标准，10000条批次样存储。

光源寿命：10年100万次

电池容量：单次充电可连续测量8000次，3.7V/3000mAh

语言：简体中文，英语

软件支持：Windows